三氟化氮化學(xué)式NF3，是無(wú)色、無(wú)臭、性質(zhì)穩(wěn)定的液化氣體，三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，易司拓普可供應(yīng)4N級(jí)三氟化氮?dú)怏w，有需求可咨詢(xún)客服。

三氟化氮產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品名稱(chēng)：三氟化氮

英文名：nitrogen trifluoride

CAS號(hào)：7783-54-2

分子量：71.00190

分子式：F3N

產(chǎn)品規(guī)格：4N

包裝規(guī)格：47L/瓶、Diss640、20kg

三氟化氮的用途與應(yīng)用

三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無(wú)污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。

NF3是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅的蝕刻，采用NF3和CF4＋O2的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無(wú)污染。氫與NF3反應(yīng)，在瞬間伴隨放出大量的熱，這就是NF3在高能化學(xué)激光器方面大量應(yīng)用的原理。在高溫下，NF3與有機(jī)化合物反應(yīng)常伴有爆炸性，操作時(shí)應(yīng)十分謹(jǐn)慎。

用作高能燃料。

三氟化氮的生產(chǎn)

目前三氟化氮工業(yè)化生產(chǎn)主要有兩條路線,一是合成法:將氟化氫銨在鎳制反應(yīng)器中加熱,氟氣、氮?dú)夂桶蓖ㄟ^(guò)分布器進(jìn)入反應(yīng)器直接氟化反應(yīng)。二是電解法:在一定溫度下,電解熔融的氟化氫銨,電解過(guò)程中陽(yáng)極產(chǎn)生三氟化氮,陰極產(chǎn)生氫氣。我國(guó)三氟化氮生產(chǎn)廠家的生產(chǎn)方法為上述兩種方法。